今日，2023年修正的《中華人民共和國專利法》施行。新增局部外觀設(shè)計專利保護(hù)。
局部外觀設(shè)計，是指對產(chǎn)品的某一局部作出的創(chuàng)新設(shè)計。我國在第四次專利法修改中引入了局部外觀設(shè)計保護(hù)制度，為了讓廣大創(chuàng)新主體增加對局部外觀設(shè)計的了解，本文對國外局部外觀設(shè)計的申請視圖的提交情況做一簡要介紹。
雖然各局對于申請視圖的提交規(guī)定不盡相同，但是，在局部外觀設(shè)計申請視圖的提交方式上，美國、日本、韓國及WIPO均允許以下兩種提交方式：
一、采用虛線與實(shí)線結(jié)合的方式。實(shí)線繪制的為保護(hù)的部分，虛線繪制的為不保護(hù)的部分。
1. 申請?zhí)枺篣S29708708
2. 申請?zhí)枺篕R30-2014-0006250
3. 申請?zhí)枺篔PD2015-13645
二、采用半透明涂覆的方式。未覆蓋的為保護(hù)的部分，覆蓋的為不保護(hù)的部分。
1. 申請?zhí)枺篔PD2007-24187
2. 申請?zhí)枺篍M000220405-0006
值得注意的是，雖然申請視圖的提交方式不同，但是，申請視圖中均既包含了需要保護(hù)的局部設(shè)計，同時，也包含了該局部所在的整體產(chǎn)品，僅僅是通過不同的繪制或者處理方式將保護(hù)與不保護(hù)的部分加以區(qū)分;同時，申請視圖中也均充分、清楚地顯示了要求保護(hù)的產(chǎn)品的了局部外觀設(shè)計，以明確其保護(hù)范圍。為了進(jìn)一步明確保護(hù)范圍，部分國家還要求申請人在其他文件中對于視圖加以說明，比如日本及韓國均規(guī)定需要在其他文件中通過文字明確請求保護(hù)的部分。
以上是筆者對于國外局部外觀設(shè)計申請視圖主要提交形式的簡要介紹，希望本文可以為創(chuàng)新主體向國外申請局部外觀設(shè)計提供參考借鑒。


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